Главная arrow Публикации arrow Нано-элементы для обработки оптической информации arrow Методика получения оксидных пленок
Main Menu
 Главная
 Новости
 Публикации
 Литографические процессы
 Базовые основы наноэлектроники и Одноэлектроника
 Тонкие пленки оксидов переходных металлов (ОПМ)
 Другие статьи
 Нано-элементы для обработки оптической информации
 FAQ
 Ссылки
 Контакты

Who's Online
На сайте:
23 гостей

Hit Counter
726371 посетителей

Наш баннер:
Мы будем рады, если вы разместите на своем сайте нашу кнопочку
NANO_Technologies


Newsflash
Нано-технологии позволят сделать фантазии реальностью. Материальное воплощение будут иметь чудеса, магия, бессмертие и прочие отклонения от закона сохранения энергии и импульса. Работая непрерывно, самовосстанавливаясь и черпая энергию из солнца, геотермальных или новых источников энергии нано-роботы будут создавать ту самую среду, в которой сказки будут окружать нас! Будет ли это светлым будущим или катастрофой - решать людям, но это точно будет другой мир.

 21 November 2018
Методика получения оксидных пленок   Версия для печати  Отправить на E-mail 
Опубликовал Irina Bolshakova  
31 May 2008

В последние годы, благодаря интенсивным экспериментальным и теоретическим исследованиям, в технологии тонких пленок достигнут определенный прогресс. В зависимости от решаемой задачи в распоряжении исследователей имеются различные методики получения образцов, дающие результатом пленки с воспроизводимыми и стабильными характеристиками. Можно утверждать, что, по крайней мере для одно- двухкомпонентных веществ, свойства пленочных структур могут приближаться к свойствам массивных материалов. Получение пленок в неравновесных условиях, при интенсивных корпускулярных и фотонных воздействиях, при стимулировании в объеме и на поверхности пленки и подложки сложных многостадийных химических реакций, приводит к тому, что пленочные структуры могут обладать уникальными специфическими свойствами, наблюдение которых в массивных материалах затруднено, а зачастую невозможно.

Пленки VO2 с хорошим скачком проводимости при ПМИ (3-4 порядка) были получены технологией лазерного реактивного распыления. Схема установки приведена на рис.2. Излучение импульсного лазера (ЛТИ-411,  = 1.06 мкм, частота 12 Гц, энергия импульса 0,250 Дж) с помощью линзы (F = 25 см) фокусировалось на вращающуюся металлическую мишень. Подложки, расположенные на расстоянии 40 - 50 мм, нагревались до температуры 520 - 5500 С . Давление кислорода в вакуумной камере поддерживалось на уровне 5 .10-2 мм.рт.ст. После окончания осаждения производилось охлаждение образцов со скоростью 10 - 30 К/мин, сопровождающееся постепенным повышением давления кислорода в вакуумной камере до атмосферного.

Рис.2 Схема лазерного реактивного распыления.1.Металлическая мишень (V). 2.Подложка. 3.Корпус нагревателя. 4.Нагреватель (галогенная лампа, 12 В, 25 Вт). 5.Сфокусированный лазерный луч. 6.Линза. 7.Средства откачки (вакуумный пост фирмы TESLA) 8.Подача кислорода.



Последнее обновление ( 31 May 2008 )

Most Read
Методы получения тонкопленочных структур
Квантовые ямы, нити, точки
Физические основы наноэлектроники
Получение нанокристаллических пленок ванадия, исследование их свойств
Сайт Нано Технологии

Shout It!

Имя:

Сообщение:


 
Go to top of page  Главная | Новости | Публикации | FAQ | Ссылки | Контакты |
Mambo 
Copyright © 2002-2005 Stefanovich G.B. & Bolshakova I.P.

НОЦ Плазма Петрозаводский государственный университет